ST系列鍍膜機(jī)

ST系列鍍膜機(jī)系我司標(biāo)準(zhǔn)化產(chǎn)品，滿足大部分實(shí)驗(yàn)室科研需求，豐富的可選配置也可響應(yīng)您的特殊需要。特點(diǎn)：1、集成一體化結(jié)構(gòu)。

2、極限真空度高，可達(dá)7×10-5Pa，可保證更高的鍍膜純凈度，提高鍍膜質(zhì)量。

3、從大氣到工作背景真空（7×10-4Pa）時(shí)間短，30分鐘左右（充干燥氮?dú)猓?系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度：≤8Pa。

4、整機(jī)采用柜式結(jié)構(gòu)，密封性能好，防塵防水，安全。

5、磁控、熱蒸發(fā)多種鍍膜方式可選。

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CT系列鍍膜機(jī)

CT(Custamued workstation)系列鍍膜機(jī)系我司非標(biāo)定制產(chǎn)品，根據(jù)您的要求單獨(dú)設(shè)計(jì)，滿足您的特殊需要。

特點(diǎn)：1、按需開發(fā)，量身定制。

2、整機(jī)采用柜式結(jié)構(gòu)，密封性能好，防塵防水，安全。

3、磁控、熱蒸發(fā)多種鍍膜方式可選

4、可集成手套箱系統(tǒng)

5、可集成多種自動(dòng)化應(yīng)用

想了解更多產(chǎn)品信息，您可撥打圖片上的電話咨詢！艾明坷竭誠(chéng)為您服務(wù)！

蒸發(fā)鍍膜

一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。厚度均勻性主要取決于：

1、基片材料與靶材的晶格匹配程度

2、基片表面溫度

3、蒸發(fā)功率，速率

4. 真空度

5. 鍍膜時(shí)間，厚度大小

組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對(duì)于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。

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